清洁技术一般包括：空气净化工程技术，空调净化工程技术，水净化，气体净化技术，微量杂质控制技术，洁净的环境监测技术和相关的环境质量控制技术。去污技术被广泛应用于高科技产业和现代科学和电子，核子，航空航天，生物科技，制药，精密机械，化工，食品，汽车制造等。

就半导体设备而言，净化技术在微电子非常重要的作用。芯微电子技术集成，而生产集成电路的制造其技术环境和纯化技术和设备的过程的严格要求。在我国大力发展微电子的“十一五”期间主要集中在信息产业。去污技术在某种意义上已经成为国家和地区的科学技术水平和工业水平的重要标志的度量。

随着我国人民生活水平的提高，人们的生活环境和要求越来越高的生活质量，高纯水净化设备的准备受到了广泛欢迎，去污技术已开始进入千家万户，融入现代生活的人。

我们的清洁技术和设备与国外先进国家相比，差距是明显的，在1965年，它开始生产的HEPA过滤器，十五年比国外晚的。1975年20年比国外晚开始生产光散射粒子计数器。0.1米清洁技术和设备在国际先进国家已成为成熟的技术，我们的国家才刚刚开始。

世界上所有工业发达国家适应清洁技术的发展，大量使用高效过滤器的研究从未中断数年一直是新产品的不同性能的不同结构的发展，美国自1979年以来开始研制0.1微米ULPA过滤器1984年美国AAF公司开始生产0.1微米ULPA过滤器的无隔板，目前0.1微米ULPA过滤器AAF公司在美国，FLANDERS公司和CAMBRIDGE公司已形成商品化生产。日本已经成为世界上生产0.1微米ULPA过滤器厂家最多的国家，品种，系列化的产品，尤其是低压损型0.1微米ULPA过滤器研制成功解决了大初阻力的技术问题。高效率的空气过滤器国际市场需求量大，每年都有所增加，目前日本每年销售超过100万台，按平均价格为每200计算$，销售额达2亿$。我们的高效率的空气过滤器市场需求量已接近每年10万台，占国际市场的2％至4％，但目前尚未生产0.1微米ULPA过滤器的超大规模集成电路生产洁净车间和各种0.1微米ULPA过滤器高科技领域，而且还洁净厂房是目前依赖进口。

在洁净室建设规模和技术水平，中国与先进国家之间的差距更大。一家日本建筑公司清水，建设工期1982年至1987年，中718000平方米洁净室领域，而洁净室当年，不到10平方米的建筑总面积，但1993年八五大开发中更，剪截成近15000000平方米洁净室总面积。洁净室施工美国更大，1998年统计已达1885000平方米。在清洁技术项目，20世纪80年代末，已建成了一大批国外和0.1微米的洁净室，1987年新泻三洋工厂建成10洁净厂房3000平方米，NIT木材建起了四座千平方英尺0.1微米的仪表控制灰尘千植物，通风的高达300次/分的数目。台湾台积电美国新厂已建成第四代管道洁净室10000平方米，总面积。0.1微米十位中国使用洁净室主要依赖从国外进口。由于高洁净级别的洁净室的成本是非常昂贵的，0.1微米10无尘室售价高达每平方米$ 10,000。洁净室投资LSI制造设备占有非常高的比例，这是不断更新的集成电路技术，产品的生命周期和更快的不相容的趋势，严重制约的LSI技术的发展。

该公司使用隔离技术的亚微米生产微环境系统设备和技术的德国兆瓦的发展，近年来被广泛采用。最新的清洁技术在100级洁净室洁净度，采用工艺设备局部应用隔离技术的微环境，投资到高层次的微环境的压缩比，消除对角色的二次污染操作人员和工艺设备运行的影响的集成电路的产量和可靠性。